介紹關于uv光氧催化設備的催化氧反響流程

 

 

 

 

     uv光氧催化設備的催化氧反響的流程如下：

 

     一、催化氧反響劑進行廢氣催化氧反響，將欠***的欠***的物質損壞且改動成為低分子沒有損傷物質；

 

     二、催化劑涂層，在C波段激光刺激它發生活性，催化氧反響效果；

 

     三、在別離過程中發生高臭氧UV紫外線光束別離空氣中的氧分子發生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而發生臭氧；眾所周知臭氧對有機物具有氧反響效果，對惡臭氣體及其它刺激性異味有較不錯的清理效果；通俗的講光催化氧反響就是在外界可見光的效果下發作催化效果，光催化氧反響反響是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它潔凈沒有損傷成份。

     當uv光氧催化設備在運轉的時候，其實是可燃物在催化劑效果下焚燒。與直接焚燒比較，催化焚燒溫度較低，焚燒比較悉數。催化焚燒所用的催化劑為具有***比表面的貴金屬和金屬氧反響物多組分物質。例如家用負載Pd或稀土化合物的催化燃氣灶，可削減尾氣中CO含量，提升熱速率。負載0.2%pt的氧反響鋁催化劑，在500℃下，可將***多數有機化合物焚燒，脫臭凈化到化學位移σ=1以下。催化焚燒為無焰焚燒，因此適用于穩定性要求高的場合，如以H2和O2為質料的燃料電池、用汽油或酒精為質料的懷爐（催化劑為浸Pt石棉）等。如除掉化工廠NOx的煙霧，可加燃料到煙霧中，經過負載型鉑和鈀催化劑，催化焚燒使NOx轉化為N2氣。